铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过一系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状。由于高纯铜具有许多优良的性质，目前已广泛应用于电子、通信、超导等领域。
铜靶材物理性质
名称 | 密度 | 色泽 | 熔点 | 沸点 |
铜靶材 | 8.92g/cm3 | 紫红色 | 1083.4℃ | 2567℃ |
铜靶材用途
适用于直流二溅射、三溅射、四溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的低成本靶材材料。
